顆粒對CCD光刻圖形完整性的影響
在CCD（電荷耦合器件）制造過程中，顆粒沾污對CCD的薄膜質(zhì)量、光刻圖形完整性等有很大的影響，降低CCD的成品率。CCD制造過程中的顆粒來源主要有兩個方面：一個制造過程中工藝環(huán)境產(chǎn)生的顆粒；另一個是薄膜的淀積、光刻和離子注入等CCD工藝過程中產(chǎn)生的顆粒。工藝環(huán)境的顆�？蓙碓从趬︙w、設(shè)施、設(shè)備、材料和人員，工藝過程的顆粒來源于易產(chǎn)生粉塵的工藝，比如說LPCVD淀積多晶硅和氮化硅及刻蝕工藝等。
本公司生產(chǎn)的COL-系列無塵烘箱，即使在普通環(huán)境下使用，能夠確保烘箱內(nèi)部等級達(dá)到Class 100，為CCD（電荷耦合器件）制造過程中烘烤提供潔凈環(huán)境，預(yù)防顆粒沾污
無塵烘箱特點：
1.全周氬焊，耐高溫硅膠破緊，SUS304#不銹鋼電熱生產(chǎn)器，防機(jī)臺本身所產(chǎn)生微塵；
2.采用進(jìn)口SUS304#日制800番2mm厚之鏡面不銹鋼板，并經(jīng)堿性蘇打水清潔，去油污避免烘烤時產(chǎn)生 PARTICLE；
3.采平面水平由后向前送風(fēng)后經(jīng)美國進(jìn)口H.E.P.A Filter 24"×24"×5-7/8"裝置往前門(特殊風(fēng)道設(shè)計)方向送風(fēng)，過濾效率99.99%，Class 100,排氣口：３"φ(附自動啟閉風(fēng)門)。
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